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進(jìn)口自動(dòng)化反應器工作站

簡(jiǎn)要描述:Radleys Mya 4自動(dòng)化反應工作站可讓科學(xué)家在一臺設備上實(shí)現對4個(gè)反應的安全地加熱、實(shí)時(shí)冷卻、軟件控制和數據記錄功能,可用于進(jìn)行24小時(shí)/7天無(wú)人值守的實(shí)驗。

  • 產(chǎn)品型號:Radleys Mya 4
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2024-04-28
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:3017

詳細介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口
應用領(lǐng)域化工

一臺具備4個(gè)操作位點(diǎn)、提供安全、準確地加熱、實(shí)時(shí)冷卻、軟件控制和數據記錄的24小時(shí)/7天無(wú)人值守的自動(dòng)化化學(xué)儀器。

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一臺儀器,無(wú)限可能


4個(gè)獨立操作位點(diǎn) 磁力&機械攪拌 2ml~400ml
4-Positions-600x600.png Stirring-600x600.png Vessel-Range-600x600.png

兼具加熱、冷卻功能

每個(gè)位點(diǎn)可以獨立操作

標配磁力攪拌功能

可選配強勁的Mya頂置式機械攪拌器
兼容廣泛的反應瓶樣式和體積

自動(dòng)化&數據記錄 -30~180℃ 控制第3方設備
Data-Logging-600x600.png Heating-and-cooling-600x600.png 3rd-Party-Integration-600x600.png

軟件控制

進(jìn)行24小時(shí)/7天無(wú)人值守的化學(xué)實(shí)驗

模塊控溫、樣品控溫
相鄰位點(diǎn)間溫差可達200℃

電腦版軟件可控制:注射泵、蠕動(dòng)泵、

pH計、真空泵等多種第3方設備


靈活多用

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更安全、更清潔、更環(huán)保、更高效

  • 4個(gè)獨立操作位點(diǎn),標配加熱、實(shí)時(shí)冷卻功能

  • 緊湊型設計,適用于多種實(shí)驗應用

  • 兼容多種多樣尺寸和形狀的反應容器

  • 程序化控制您的實(shí)驗,實(shí)時(shí)自動(dòng)記錄實(shí)驗數據

  • 準確地溫度控制

  • 磁力攪拌,機械攪拌

  • 取代低效、雜亂和不安全的油浴、干冰浴

  • 更加節省實(shí)驗室空間

  • 兼容第3方設備:天平、泵和pH計等

  • 軟件控制,提高安全性,減少人為錯誤

  • 24小時(shí)/7天無(wú)人值守運行,提高效率




主要特點(diǎn)



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歧管型 或 回流型 機頭


  • 水冷式

  • 內置氣體回路,可用于填充惰性氣體

  • 歧管型機頭:

    將冷卻水分配至每個(gè)獨立的冷凝管

    標配截止閥,防止倒流

  • 回流型機頭:

    直接對回流管內的蒸汽進(jìn)行冷凝

  • 無(wú)需外接冷凝管,便于使用


磁力攪拌 或 機械攪拌


  • 標配磁力攪拌功能:100~1000rpm

  • 可選配Mya頂置式機械攪拌器

  • 強勁地攪拌

  • 轉速范圍:100~1000rpm

  • 無(wú)需工具即可安裝

  • 每個(gè)位點(diǎn)的轉速獨立控制

  • 相鄰位點(diǎn)可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響


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可選多種多樣尺寸和形狀的反應容器


從2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓底燒瓶和過(guò)程釜體


  • 樣品瓶和試管:2ml~20ml

  • 圓底燒瓶:25~250ml

  • 過(guò)程釜體:50~400ml

  • 多口釜蓋:3口或5口

  • 其他配件


Mya 4控制選項


24小時(shí)/7天無(wú)人值守地進(jìn)行您的實(shí)驗,可選的操作系統:

  • 觸摸控制面板:儀器標配

  • 選的PC控制軟件:用于控制第3方設備





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根據您的需求配置Mya 4



您可以靈活地配置Mya 4的各類(lèi)配件,用以適配您的各類(lèi)實(shí)驗


  • 選擇歧管型或回流型機頭,或者不使用機頭

  • 選擇反應容器的形狀和尺寸

  • 選擇跟反應容器適配的插件

  • 選擇多口釜蓋或者回流管

  • 選擇頂置式機械攪拌器、攪拌槳或者磁力攪拌子

  • 選擇其他配件(溫度探針、玻璃配件等)

  • 選擇PC控制軟件




工藝套裝

小試套裝

其他配置

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配置:歧管式機頭

過(guò)程釜體

 

配置:回流式機頭

圓底燒瓶

 

配置:

樣品瓶和試管


靈活多用,廣泛適用于從小試研發(fā)到工藝開(kāi)發(fā)的眾多實(shí)驗應用

  • 工藝開(kāi)發(fā)

  • DOE實(shí)驗

  • 實(shí)驗放大

  • 結晶研究

  • 晶型篩選

  • 先導物研究

  • 平行實(shí)驗

  • 實(shí)驗優(yōu)化

  • 溶劑、催化劑篩選

  • 路線(xiàn)研究


小結
4個(gè)獨立操作位點(diǎn)

——可同時(shí)使用1,2,3或4個(gè)位點(diǎn)

——平行操作4個(gè)位點(diǎn),或由多個(gè)使用者分別獨立操

準確地溫度控制

——溫度控制范圍:-30~180℃

——相鄰位點(diǎn)間溫差可達200℃

——每個(gè)位點(diǎn)的溫度獨立控制

——可選擇控制模塊溫度或樣品溫度

使用自來(lái)水或冷水機

——Mya 4使用*進(jìn)的半導體制冷技術(shù),可快速制冷至-30℃

——半導體芯片需要自來(lái)水或冷水機來(lái)帶走熱端熱量,以持續制冷



冷卻源 自來(lái)水(15℃) 冷水機(5℃)

最di模塊溫度 -25℃ -35℃

最di樣品溫度 -20℃ -25℃


磁力攪拌或機械攪拌

——標配磁力攪拌功能,轉速范圍:100~1000rpm

——可選配Mya頂置式機械攪拌器,轉速范圍:100~1000rpm

——每個(gè)位點(diǎn)的轉速獨立控制

——相鄰位點(diǎn)可分別使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響






 

 

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